Abstract:
Dans ce travail, nous avons proposé une commande à base de régulateurs proportionnel
intégral
PI
afin de régler le niveau dans un réservoir et de contrôler en particulier les
concentrations du distillat
D
x
et du résidu
B
x
dans une colonne de distillation binaire. Deux
types de structure de commande ont été appliquées ; la commande en boucle ouverte et la
commande en boucle fermée. Les résultats de simulations ont montré que la structure de
commande en boucle fermée contenant des régulateurs
PI
été capable d’éliminer les effets
des perturbations et garder toujours les concentrations
D
x
et
B
x
autours de leur valeurs de
référence par rapport à la structure en boucle ouverte qui a échoué face aux perturbations.
Comme conclusion, une structure de commande en boucle fermée est toujours nécessaire dans
une colonne de distillation.
Les résultats ont été validés à travers des simulations dans l’environnement MATLAB et les
équations différentielles des modèles (réservoir et colonne de distillation) ont été résolues en
manipulant les méthodes d’intégration numériques de Runge-Kutta4 et d’Euler
respectivement.
